细粉加工设备(20-400目)
我公司自主研发的MTW欧版磨、LM立式磨等细粉加工设备，拥有多项国家专利，能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20-400目，是您在电厂脱硫、煤粉制备、重钙加工等工业制粉领域的得力助手。
超细粉加工设备(400-3250目)
LUM超细立磨、MW环辊微粉磨吸收现代工业磨粉技术，专注于400-3250目范围内超细粉磨加工，细度可调可控，突破超细粉加工产能瓶颈，是超细粉加工领域粉磨装备的良好选择。
粗粉加工设备(0-3MM)
兼具磨粉机和破碎机性能优势，产量高、破碎比大、成品率高，在粗粉加工方面成绩斐然。
二氧化硅研磨制粉机械
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一种二氧化硅粉研磨装置的制作方法
2020年9月23日 — 一种二氧化硅粉研磨装置，包括一级粉磨组件，以及装配连通在一级粉磨组件底部的二级粉磨组件； 物料经过一级粉磨组件初次粉磨后下料到二级粉磨组件内再次 2021年5月25日 — 为解决上述技术问题，本实用新型提供一种二氧化硅研磨制粉装置，其结构简单，预先对二氧化硅进行破碎，然后再进行研磨，提高生产效率。一种二氧化硅研磨制粉装置的制作方法本实用新型涉及二氧化硅制粉附属装置的技术领域,特别是涉及一种二氧化硅研磨制粉装置,其结构简单,预先对二氧化硅进行破碎,然后再进行研磨,提高生产效率;包括外壳,正转磨盘,反 一种二氧化硅研磨制粉装置 百度学术2021年12月16日 — 二氧化硅是重要的化工原料;其硬度较高，磨成粉末后可用于冶金行业、其他化工行业和建材行业。二氧化硅研磨用什么设备? 硅粉成品 研磨后的二氧化硅材料具 二氧化硅研磨用什么设备?硅石粉磨生产线工艺流程 知乎
一种实验室用二氧化硅粉研磨装置制造方法
2014年6月25日 — 一种实验室用二氧化硅粉研磨装置制造方法 【专利摘要】本实用新型是一种实验室用二氧化硅粉研磨装置，在机架上设有至少一组研磨机构，每组研磨机构包括 2022年7月12日 — 产品介绍 白炭黑（二氧化硅）超细研磨机工作原理： 粉碎转子由多层粉碎盘和多个粉碎刀片组成，粉碎效率高，可用于团聚物的打散、含水物料的粉碎干燥和纤 摩克立白炭黑（二氧化硅）超细研磨机报价山东摩克立粉体 2023年7月3日 — 机械研磨是获得各种粒径的二氧化硅气凝胶（SA）的简便方法。然而，研磨参数与物理化学性质之间的关系仍不清楚。在本研究中，我们重点研究了研磨时间和研 机械研磨对二氧化硅气凝胶理化性能的影响 XMOL2016年7月11日 — 二氧化硅应用于工业中需要磨粉设备的辅助加工，下面磨粉机厂家黎明重工来详细介绍二氧化硅的性质用用途和磨粉机的使用。 当二氧化硅结晶完美时就是水晶； 二氧化硅的用途及磨粉设备的使用企业资讯中国粉体网
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二氧化硅磨粉加工设备
而大型和超大型的二氧化硅、碳化硅加工机械也必将得到更多关注。 郑州通用矿山机器有限公司专业生产大型的颚式破碎机、碳化硅磨粉机、硅微粉超细磨粉机设备,订购咨询2020年10月19日 — 目前，球形或类球形二氧化硅或石英超细粉的制备方法主要包括物理法和化学法，物理法包括机械研磨法、火焰成球法、高温熔融喷射法、等离子体法；化学法主要是气相法、液相法（溶胶一凝胶法、沉 研究综述球形或类球形二氧化硅超细颗粒的10种制备 2022年12月22日 — 行星式球磨是利用研磨球高频撞击和强力摩擦来细致研磨样品的一种方法，而行星式球磨机分为齿轮传动和皮带传动，就机械结构和实际应用来说，皮带传动的行星球磨机转速更高，研磨时产生的能量就更大，下面就来看看TJX行星式球磨机研磨二氧化硅的过程及结果报告。实验室二氧化硅样品研磨前处理解决方案2021年10月2日 — 与晶体硅相比，尽管非晶硅的电子电导率和热导率较差 [8]，但非晶硅在充放电过程中体积膨胀明显缓解 [9]。非晶硅嵌锂时体积膨胀呈现各向同性(晶态硅呈各向异性)，因此，在充放电过程中非晶硅具有更好的结构可逆性 [9]。此外，非晶硅具有更好的机械稳定性，其结构破裂的临界尺寸达到870 nm 非晶态纳米硅粉制备方法综述 cip
金属硅磨粉方法介绍
2023年11月8日 — 金属硅磨粉方法是以硅块为原料生产成品硅粉，一般采用机械制备法，其中效果较好、应用较多的是:球磨法、辊磨法、轮碾法、高速机械式冲击法，应用的主要设备分别是:球磨机、辊磨机、轮碾机、高速机械冲击式粉碎机。就制粉原理看，前三种是挤压粉 2023年10月12日 — 晶圆制造过程主要包括7个相互独立的工艺流程：光刻、刻蚀、薄膜生长、扩散、离子注入、化学机械抛光、金属化。作为晶圆制造的关键制程工艺之一，化学机械抛光指的是，通过化学腐蚀与机械研磨的协同配合作用，实现晶圆表面多余材料的高效去除与全局纳米级平坦化。晶圆研磨，CMP工艺是关键！ 知乎专栏2018年1月3日 — 小麦制粉行业有句俗语“三分工艺，七分操作”。同一条小麦制粉生产线，相同的原粮，不同的操作技能，将会产生明显不同的制粉效果。就小麦制粉中的研磨效果与设备操作而言，良好的工艺和设备是前提，正确的操作技能是保障。小麦制粉中研磨效果与设备操作2021年5月25日 — 本实用新型涉及二氧化硅制粉附属装置的技术领域，特别是涉及一种二氧化硅研磨制粉装置。背景技术： 众所周知，二氧化硅，化学术语，纯的二氧化硅无色，常温下为固体，不溶于水，不溶于酸，但溶于氢氟酸及热浓磷酸，能和熔融碱类起作用，自然界中存在有结晶二氧化硅和无定形二氧化硅 一种二氧化硅研磨制粉装置的制作方法
使用高级二氧化硅磨料对 Si3N4 与 SiO2 进行高选择性化学
2017年4月7日 — 改性二氧化硅磨料的这种强大的负 zeta 电位能够在低 pH 环境中增强对 Si3N4 的吸引力和对 SiO2 的排斥力。此外，茧形二氧化硅磨料显示出比球形磨料高 3 倍的 Si3N4 RR。最后，Si3N4 对 SiO2 的选择性达到 950，比传统二氧化硅磨料情况下的 00167 2024年2月5日 — 酮表现出相对较差的机械性能，因为硅酮主链之间的 分子间力相当弱。因此，这些材料需要通过各种填料 如无机二氧化硅或其他材料进行机械增强。气相二氧化硅（以下简称“Aerosil” ）等二氧化硅 填料对硅橡胶的各种性能有很大影响，包括流变学、气相二氧化硅填料(Aerosil)对硅橡胶 性能的影响 China RPTE2020年11月1日 — CPMD 的个应用是一个模型，该模型包括由氧化铈簇摩擦的二氧化硅表面，以确定 CMP 过程中的基本摩擦化学现象。该模型由以氢为末端的二氧化硅表面（氧化晶片表面的代表性模型）和放置在二氧化硅表面粗糙附近的 H4Ce6O12 簇组成。用于化学机械抛光工艺的功能材料设计的二氧化铈/二氧化硅 2015年4月27日 — 纳米球形硅微粉( SiO2) 是一种无毒、无味、无污染的无定型白色粉末，粒径通常为20 ～ 200 nm，由于其具备粒径小、纯度高、分散性好、比表面积大、导热系数低、热膨胀系数低、化学性能稳定、耐腐蚀等优越性能而具有广阔的发展前景。球形硅微粉主要应用于大规模集成电路封装，在航空、航天 纳米球形二氧化硅的制备工艺进展 技术进展 中国粉体技术
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【生尧大小事】水资源处理：半导体晶圆厂机械研
2022年12月28日 — 延续上周谈到机械研磨(CMP)废水的处理，目前国内研究可处理的方法有以下5种： 一、 化学混凝法：原理：利用混凝使废水中二氧化硅颗粒去稳定化而相互凝聚，再透过慢速搅拌，促使胶羽碰撞集结成 2023年10月11日 — 氧化铈是集成电路制造中浅沟槽隔离（STI）化学机械抛光（CMP）工艺中使用的主要磨料。人们普遍认为，氧化铈颗粒表面的三价铈离子（Ce 3+ ）可以与二氧化硅电介质形成CeOSi键。因此，氧化铈在介质CMP工艺中的应用得到了广泛的研究。氧化 纳米二氧化铈作为磨料在介质层CMP及后清洗中的应用研究 2023年11月13日 — 显然, 抛光Si表面的过程中, 这两种力将使抛光液中的由于化学反应而生成的氢气和硅酸盐紧紧地吸附在表面的硅原子上, 使进一步的化学反应难于进行, 而抛光液中的SiO2颗粒由压力和软衬垫作用和表面硅原子起到紧密的接触研磨、这样除了磨削机械作用外, 化学机械抛光液配方分析 知乎二氧化硅 抛光液 对于那些在金相制备领域尚且涉足不深的人来说，二氧化硅抛光液恐怕还是一个陌生的名字。因为传统的金相抛光工艺中很少提及此种抛光液（尤其是在高校），但是对于CMP来说它又是如此的常见。其实作为一种精密抛光液，它在金相 关于二氧化硅抛光液，那些你不知道的事特鲁利（苏州）材料
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二氧化硅 百度百科
二氧化硅，是一种无机化合物，化学式为SiO2，硅原子和氧原子长程有序排列形成晶态二氧化硅，短程有序或长程无序排列形成非晶态二氧化硅。二氧化硅晶体中，硅原子位于正四面体的中心，四个氧原子位于正四面体的四个顶角上，许多个这样的四面体又通过顶角的氧原子相连，每个氧原子为两个 磨粉机械(又称制粉机械)主要用来加工小麦、玉米等粮食作物，将其研磨成粉，再经过筛理，将面粉和麸皮分开。磨粉机是小麦和玉米等杂粮制粉的主要设备，常用的有辊式、锥式和盘式(钢磨)三种。它们的工作原理，都是利用挤压和研磨的方法，把小麦等碾成粉状，然后再用细筛把面粉和麸皮分开。磨粉机械 百度百科2023年9月12日 — AEROSIL气相法二氧化硅用作分散和研磨 助剂 AEROSIL气相法二氧化硅是固体颗粒很好的研磨助剂，不论是干燥状态分散还是在液体介质中分散。通过研磨或剪切作用，可以将固体颗粒打碎到一定的程度，直到这样一个点，这些“碎的颗粒”重新聚集的 AEROSIL®纳米二氧化硅的种类和分散解决办法 知乎2021年6月19日 — 研磨是将颗粒固体制备成所需规格的一项重要且耗能的操作。它已被广泛研究以提高研磨速度、能源利用率和研磨操作的控制。随着新材料的开发和新铣削系统的应用，了解铣削的基础科学对于有效和可预测的尺寸减小非常重要。在玻璃行业，硅酸盐玻璃被开发出来具有非常特殊的属性，但尺寸减小 机械性能对无定形和结晶二氧化硅基固体研磨的影响,Powder
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东莞金研精密研磨机械制造有限公司
2018年3月14日 — 东莞金研精密研磨机械制造有限公司成立于 2010 年，主要研发、生产制造、销售高精密平面研磨机、精密平面抛光机等数控设备及与其相配套的易耗品。我们的产品广泛应用于金属、非金属（包括陶瓷、蓝宝石视窗片和衬底片、碳化硅衬底、氮化 2021年6月3日 — 晶体物质作为一种特殊结构的固体，因经受机械力作用而引起的结构变化是比较复杂的。研究发现，石英在研磨过程中，无定形二氧化硅相对含量随研磨时间的延长而持续增加，直至变化平缓，显示出机械力作用对晶体结构的影响。机械力化学研究现状及其在小麦 制粉中的应用前景参考网2006年12月6日 — 研磨料和无效研磨料两部分，如图3所示．由于抛光 垫的弹性形变及硅晶圆片表面的凹凸形貌，只有平 均粒径以上的部分研磨料真正参与了犆犕犘的机械 研磨，而小粒径却仅参与了抛光产物的质量传递过 程． 为此大粒径纳米胶体二氧化硅 研磨料成 本硅晶片双面超精密化学机械抛光 JOS2023年11月27日 — 因为单纯的物理研磨会引入显著的机械损伤，如划痕和位错，且无法达到所需的平整度，因此不适用于芯片制造。 cmp机台构造？ 我将先进的cmp机台分为8大系统：抛光系统，清洗系统，终点检测系统， 化学机械研磨（cmp）工艺简介 知乎
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烘干与粉磨
2022年11月5日 — 烘干与粉磨辉绿岩研磨机械价格细粉加工设备(20400目)：MTW欧版磨、LM立式磨、矿渣立磨机等细粉加工设备是我公司自主研发的高附加值产品，拥有多项国家专利，能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20400目，是 2023年11月16日 — 通过不同雾化技术的对比可以看出，组合雾化法是未来发展的重要方向，通过工艺调整，可制备出不同需求的金属粉末。以现有的制粉技术，通过不同的组合，可使制备出的粉末性能得到提升，例如超声技术和紧耦合技术结合出的超声紧耦合雾化技术，以及目前研究火热的气雾化和离心雾化结合的 主流的几种金属粉末制备方法粉体资讯粉体圈 2020年4月24日 — 二氧化硅废料 二氧化硅废料怎么处理?二氧化硅废料种类有那些？二氧化硅废料需求助固废磨粉机制粉方可再生利用。助有传统的雷蒙磨粉机(80~325目粉)，摆式磨粉机即升级版的雷蒙磨粉机(80~600目)，超细环辊磨粉机(80~1250目)，立式磨粉机和超 二氧化硅废料制粉机器多少钱一台黎明重工碳化硅粉的生产工艺通常包括石墨和二氧化硅的混合、烧结和研磨 等步骤。 1 混合 将石墨和二氧化硅按照一定比例精细混合，确保二者充分接触和反应。在混合过程中，可以加入一定的添加剂，如粘结剂和助剂，以提高反应效率和产品质量 碳化硅粉生产工艺 百度文库
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纳米二氧化硅团聚的解决方案 知乎
2023年9月11日 — 纳米二氧化硅是极其重要的高科技超微细无机新材料之一,由于其粒径很小，因此比表面积大，表面吸附力强，表面能大，化学纯度高、分散性能好、热阻、电阻等方面具有特异的性能，以其优越的稳定性、补强性、增稠性和触变性，在众多学科及领域内独具特性，有着不可取代的作用。2021年9月26日 — 二、物理化学法 还原法 机理：还原法是利用还原剂在一定条件下将金属氧化物或金属盐类等进行还原而制取金属或合金粉末的方法，是生产中应用最广的制粉方法之一。常用的还原剂有气体还原剂(如氢、分解氨、转化天然气等)、固体碳还原剂(如木炭、焦炭、无烟煤等)和金属还原剂(如钙、镁、钠 金属粉末的制备方法 知乎2024年2月20日 — 一、物理法 1、雾化法 01 真空气雾化 （VIGA） 真空气雾化是指在真空条件下熔炼金属或金属合金，在气体保护的条件下，金属液体经过保温坩埚、导流嘴流出（向下），通过喷嘴由高压气流将金属液体雾化破碎成大量细小的液滴，液滴在飞行中凝固成球形或是近球形颗粒，达到制粉的目的。金属粉末制备工艺盘点 知乎2024年9月26日 — 与标准研磨浆不同，胶体二氧化硅属于一种称为 CMP 或化学机械抛光的类别。在生产蓝宝石和硅晶片、冶金样品制备和医疗植入物抛光中很常见。 CMP 工艺使用细二氧化硅颗粒和基于胶体碱的 PH 值 二氧化硅胶体在表面处理中的应用 科密特科技（深
二氧化硅研磨用什么设备?硅石粉磨生产线工艺流程 知乎
2021年12月16日 — 二氧化硅是重要的化工原料;其硬度较高，磨成粉末后可用于冶金行业、其他化工行业和建材行业。二氧化硅研磨用什么设备? 硅粉成品 研磨后的二氧化硅材料具有很高的利用价值。 一、硅石粉磨设备——磨机简介 如果二氧氧化铁研磨机械 工作原理 研磨工艺百度百科研磨工艺研磨精密加工的原理：研磨是在精加工基础上用研具和磨料从工件表面磨去一层极薄金属的一种磨料精密加工方法。研磨分为手工研磨和机械研磨。研磨利用涂敷或压嵌在研具上的磨料颗粒，通过研具 氧化铁研磨机械工作原理1998年9月1日 — CeO2、ZrO2 和 Fe2O2 更接近于 SiO2 层但显着低于 Si3N4 工作材料的硬度，研磨剂的后续机械作用有助于在不刮伤和/或损坏 Si3N3 基材的情况下有效去除 SiO2 反应层。只有通过随后的机械作用连续去除钝化层，化学反应才会持续进行。 发现油基抛光环境 使用各种磨料对氮化硅 (Si3N4) 工作材料进行化学机械抛光 2023年10月16日 — 【研究现状】 综述球形粉体常见制备技术，包括传 统物理法（机械整形法和喷雾干燥法）、化学法（气相化学反应法、沉淀法、水热合成法、溶胶凝胶法及微乳液法）和高温 熔融法（等离子体球化法、雾化法和气体燃烧火焰成球法），总结上述方法的优势 球形粉体制备技术研究进展 University of Jinan
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二氧化硅在磨料和抛光中的应用百度文库
二氧化硅是一种广泛应用于工业生产中的无机化合物，其化学式为SiO2。其在制作磨料和抛光剂方面具有重要的应用价值，对于工业生产有着重要的推动作用。本文将探讨二氧化硅在磨料和抛光中的应用。 一、二氧化硅作为磨料的应用 11二氧化硅磨料的特点在电子器件方面，二氧化硅用于制备半导体器件、光纤通信和液晶显示等；在建筑材料领域，二氧化硅被应用于混凝土和玻璃等的增强和增韧；在化妆品和医药制品方面，二氧化硅作为吸附剂、填充剂和包裹剂具有重要的作用。 二氧化硅生产工艺流程二氧化硅生产工艺流程 百度文库2011年4月29日 — 无机硅化合物(()，胛SiliconCompozmd)2007年第4期(总第141期，内部交流)新型CMP用二氧化硅研磨料刘玉岭，王娟，张建新(河北工业大学微电子研究所，天津)摘要：介绍化学机械抛光技术的重要性，找出影响其性能的关键冈素即为研磨料i然肝 【二氧化硅】新型CMP用二氧化硅研磨料 豆丁网5 天之前 — 菏泽市大卫机械制造有限公司深冷粉碎生产线介绍如下:DM500型深冷粉碎机介绍:一．工作原理及特点本产品整套深冷粉碎机由料仓，机械粉碎机，引风机，旋风器，振动筛，液氮罐等组成。（1）工作原理该深冷粉碎菏泽市大卫机械液氮冷冻制粉代加工参数价格中国粉体网
一种二氧化硅研磨制粉装置的制作方法
2021年5月25日 — 本实用新型涉及二氧化硅制粉附属装置的技术领域，特别是涉及一种二氧化硅研磨制粉装置。背景技术： 众所周知，二氧化硅，化学术语，纯的二氧化硅无色，常温下为固体，不溶于水，不溶于酸，但溶于氢氟酸及热浓磷酸，能和熔融碱类起作用，自然界中存在有结晶二氧化硅和无定形二氧化硅 2020年10月19日 — 目前，球形或类球形二氧化硅或石英超细粉的制备方法主要包括物理法和化学法，物理法包括机械研磨法、火焰成球法、高温熔融喷射法、等离子体法；化学法主要是气相法、液相法（溶胶一凝胶法、沉 研究综述球形或类球形二氧化硅超细颗粒的10种制备 2022年12月22日 — 行星式球磨是利用研磨球高频撞击和强力摩擦来细致研磨样品的一种方法，而行星式球磨机分为齿轮传动和皮带传动，就机械结构和实际应用来说，皮带传动的行星球磨机转速更高，研磨时产生的能量就更大，下面就来看看TJX行星式球磨机研磨二氧化硅的过程及结果报告。实验室二氧化硅样品研磨前处理解决方案2021年10月2日 — 与晶体硅相比，尽管非晶硅的电子电导率和热导率较差 [8]，但非晶硅在充放电过程中体积膨胀明显缓解 [9]。非晶硅嵌锂时体积膨胀呈现各向同性(晶态硅呈各向异性)，因此，在充放电过程中非晶硅具有更好的结构可逆性 [9]。此外，非晶硅具有更好的机械稳定性，其结构破裂的临界尺寸达到870 nm 非晶态纳米硅粉制备方法综述 cip
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金属硅磨粉方法介绍
2023年11月8日 — 金属硅磨粉方法是以硅块为原料生产成品硅粉，一般采用机械制备法，其中效果较好、应用较多的是:球磨法、辊磨法、轮碾法、高速机械式冲击法，应用的主要设备分别是:球磨机、辊磨机、轮碾机、高速机械冲击式粉碎机。就制粉原理看，前三种是挤压粉 2023年10月12日 — 晶圆制造过程主要包括7个相互独立的工艺流程：光刻、刻蚀、薄膜生长、扩散、离子注入、化学机械抛光、金属化。作为晶圆制造的关键制程工艺之一，化学机械抛光指的是，通过化学腐蚀与机械研磨的协同配合作用，实现晶圆表面多余材料的高效去除与全局纳米级平坦化。晶圆研磨，CMP工艺是关键！ 知乎专栏2018年1月3日 — 小麦制粉行业有句俗语“三分工艺，七分操作”。同一条小麦制粉生产线，相同的原粮，不同的操作技能，将会产生明显不同的制粉效果。就小麦制粉中的研磨效果与设备操作而言，良好的工艺和设备是前提，正确的操作技能是保障。小麦制粉中研磨效果与设备操作2021年5月25日 — 本实用新型涉及二氧化硅制粉附属装置的技术领域，特别是涉及一种二氧化硅研磨制粉装置。背景技术： 众所周知，二氧化硅，化学术语，纯的二氧化硅无色，常温下为固体，不溶于水，不溶于酸，但溶于氢氟酸及热浓磷酸，能和熔融碱类起作用，自然界中存在有结晶二氧化硅和无定形二氧化硅 一种二氧化硅研磨制粉装置的制作方法
使用高级二氧化硅磨料对 Si3N4 与 SiO2 进行高选择性化学
2017年4月7日 — 改性二氧化硅磨料的这种强大的负 zeta 电位能够在低 pH 环境中增强对 Si3N4 的吸引力和对 SiO2 的排斥力。此外，茧形二氧化硅磨料显示出比球形磨料高 3 倍的 Si3N4 RR。最后，Si3N4 对 SiO2 的选择性达到 950，比传统二氧化硅磨料情况下的 00167 2024年2月5日 — 酮表现出相对较差的机械性能，因为硅酮主链之间的 分子间力相当弱。因此，这些材料需要通过各种填料 如无机二氧化硅或其他材料进行机械增强。气相二氧化硅（以下简称“Aerosil” ）等二氧化硅 填料对硅橡胶的各种性能有很大影响，包括流变学、气相二氧化硅填料(Aerosil)对硅橡胶 性能的影响 China RPTE2020年11月1日 — 摘要 我们报告了一种化学机械抛光 (CMP)，其中氧化铈磨粒在水环境中抛光硅晶片表面。使用了 CarParrinello 分子动力学 (CPMD) 方法，该方法能够非经验地处理非平衡系统中的化学反应动力学。CPMD 的个应用是一个模型，该模型包括由氧化铈 用于化学机械抛光工艺的功能材料设计的二氧化铈/二氧化硅
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